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第14講:工業(yè)用NX封裝全SiC功率模塊

發(fā)布時(shí)間:2025-01-24 責(zé)任編輯:lina

【導(dǎo)讀】三菱電機(jī)開發(fā)了工業(yè)應(yīng)用的NX封裝全SiC功率模塊,采用低損耗SiC芯片和優(yōu)化的內(nèi)部結(jié)構(gòu),與現(xiàn)有的Si-IGBT模塊相比,顯著降低了功率損耗,同時(shí)器件內(nèi)部雜散電感降低約47%。


三菱電機(jī)開發(fā)了工業(yè)應(yīng)用的NX封裝全SiC功率模塊,采用低損耗SiC芯片和優(yōu)化的內(nèi)部結(jié)構(gòu),與現(xiàn)有的Si-IGBT模塊相比,顯著降低了功率損耗,同時(shí)器件內(nèi)部雜散電感降低約47%。


三菱電機(jī)從1994年開始研發(fā)SiC-MOSFET,經(jīng)過試制驗(yàn)證,目前正處于普及擴(kuò)大的階段。SiC-MOSFET能夠使系統(tǒng)整體的效率最大化,具有濾波器等被動(dòng)元件尺寸減小和冷卻系統(tǒng)小型化等各種優(yōu)點(diǎn),逐漸有替換Si-IGBT的趨勢。但是,SiC-MOSFET與Si-IGBT相比,由于開關(guān)速度快造成浪涌電壓高,超過器件額定電壓的可能性提升。為了使浪涌電壓在器件的額定電壓內(nèi),其中一種解決方案是增加?xùn)艠O電阻并減慢開關(guān)速度,但這種解決方法沒有利用SiC-MOSFET低損耗工作的優(yōu)點(diǎn)。目前工業(yè)用Si-IGBT模塊中廣泛采用NX封裝,在考慮從Si-IGBT易替代性的同時(shí),還可以利用SiC-MOSFET的特點(diǎn),開發(fā)出能夠?yàn)橄到y(tǒng)高效率化做出貢獻(xiàn)的產(chǎn)品。圖1表示外觀圖,圖2表示內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖。


第14講:工業(yè)用NX封裝全SiC功率模塊

圖1:產(chǎn)品外觀


第14講:工業(yè)用NX封裝全SiC功率模塊

圖2:內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖


產(chǎn)品特點(diǎn)(1200V/600A 2in1,1700V/600A 2in1)

  • 采用第2代平面柵SiC-MOSFET(不搭載SBD);

  • 采用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)封裝(NX封裝);

  • 通過封裝的低電感化(Ls=9nH),實(shí)現(xiàn)低損耗;

  • 考慮封裝內(nèi)芯片布局,優(yōu)化內(nèi)部芯片電流均衡;


一般與開關(guān)速度有很大關(guān)系的浪涌電壓由下式表示:


第14講:工業(yè)用NX封裝全SiC功率模塊


Ls:回路雜散電感;dID/dt:電流變化率;


在式(1)計(jì)算出的ΔVDS加上母線電壓VDD的電壓,需要設(shè)計(jì)不超過器件的額定電壓,但是為了抑制ΔVDS,需要增大RG以抑制開關(guān)速度,或者使電路雜散電感Ls最小化。開關(guān)速度和回路電感的影響如圖3波形所示?;芈冯姼邪ㄟB接器件和電容器的外部電路電感,以及器件內(nèi)部的雜散電感。外部回路雜散電感可通過采用疊層母排結(jié)構(gòu)或使用緩沖電路來降低,NX-SiC模塊通過內(nèi)部疊層設(shè)計(jì),使Ls最小化(Ls≒9nH)(圖2),來實(shí)現(xiàn)高速開關(guān)。


第14講:工業(yè)用NX封裝全SiC功率模塊

圖3:關(guān)斷波形的示意圖


圖4、圖5顯示了與傳統(tǒng)NX封裝Si-IGBT特性比較的結(jié)果:


第14講:工業(yè)用NX封裝全SiC功率模塊

圖4:關(guān)斷浪涌電壓 vs Eoff


第14講:工業(yè)用NX封裝全SiC功率模塊

圖5:損耗計(jì)算結(jié)果


在圖4中,即使將SiC-MOSFET安裝在傳統(tǒng)Si-IGBT使用的NX封裝中(紅線左上角),當(dāng)調(diào)整柵極電阻以保持電壓低于1700V時(shí),Eoff也只能降低到約40mJ。在Si-IGBT中,由于di/dt比較緩慢,產(chǎn)生的浪涌電壓不超過1700V,雖無規(guī)定柵極電阻的最小值,但即使在0Ω時(shí)進(jìn)行開關(guān)Eoff也高達(dá)約150mJ(紅線右下方)。


為了在SiC-MOSFET中實(shí)現(xiàn)Eoff的進(jìn)一步改善,需要減小柵極電阻進(jìn)行開關(guān)切換。從公式(1)中可得知降低封裝的雜散電感的重要性。實(shí)際上,采用低電感封裝的SiC-MOSFET可以將柵極電阻降至最低,并將關(guān)斷電壓保持在額定電壓1700V以下,Eoff為10mJ,約為傳統(tǒng)NX封裝的1/4。SiC-MOSFET在模擬逆變器工作的損耗計(jì)算結(jié)果顯示,搭載在傳統(tǒng)封裝上的損耗降低約為63%,搭載在低電感封裝上的損耗降低約為72%。芯片溫度可以低62K(圖5)。在與Si-IGBT相同的芯片溫度工作時(shí),可將載波頻率提高約5倍(7kHz→35kHz),芯片的低損耗特性和高頻化有利于冷卻系統(tǒng)和濾波器等被動(dòng)元件的小型化。


NX SiC使用效果

  • 通過采用低電感封裝,與Si-IGBT相比,功率損耗可降低72%;

  • 通過實(shí)現(xiàn)高頻開關(guān),為設(shè)備小型化、低成本化做出貢獻(xiàn);

  • 采用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)封裝,便于替換Si-IGBT模塊


工業(yè)級全SiC-MOSFET以電源行業(yè)為中心被廣泛用于各種應(yīng)用。不僅改善了芯片特性,還開發(fā)了能夠最大限度發(fā)揮芯片性能的封裝,從而提高系統(tǒng)整體的效率及降低組件成本等。未來,我們將繼續(xù)開發(fā)能實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)節(jié)能的功率模塊。

文章來源:三菱電機(jī)半導(dǎo)體


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